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类 别:  三维教程 >> VR渲染器教程 发布者:Stronger 发布时间:2009/6/19 阅读:36540 [返回]

42.Advanced irradiance map parameters   高级光照贴图参数

Interpolation type 插值类型– 该列表让你选择对应某个给定像素,VRay对其存储在光照贴图中的全局照明采样点进行插补计算的方法,可用的选项有 Weighted average, Least squares fit, Delone triangulation.等。

Weighted average:加权平均值,根据发光贴图中GI 样本点到插补点的距离和法向差异进行简单的混合得到。

Least squares fit:最小平方适配,默认的设置类型,它将设法计算一个在发光贴图样本之间最合适的GI 的

值。可以产生比加权平均值更平滑的效果,同时会变慢。

Delone triangulation:三角测量法,几乎所有其它的插补方法都有模糊效果,确切的说,它们都趋向于模糊

间接照明中的细节,同样,都有密度偏置的倾向。与它们不同的是,Delone triangulation 不会产生模糊,它可以

保护场景细节,避免产生密度偏置。但是由于它没有模糊效果,因此看上去会产生更多的噪波(模糊趋向于隐藏

噪波)。为了得到充分的效果,可能需要更多的样本,这可以通过增加发光贴图的半球细分值或者较小QMC 采

样器中的噪波临界值的方法来完成。

Least squares with Voronoi weights:这种方法是对最小平方适配方法缺点的修正,它相当的缓慢,而且目前

可能还有点问题。不建议采用。

虽然各种插补类型都有它们自己的用途,但是最小平方适配类型和三角测量类型是最有意义的类型。最小平方适配可以产生模糊效果,隐藏噪波,得到光滑的效果,使用它对具有大的光滑表面的场景来说是很完美的。三角测量法是一种更精确的插补方法,一般情况下,需要设置较大的半球细分值和较高的最大比率值(发光贴图),因而也需要更多的渲染时间。但是可以产生没有模糊的更精确的效果,尤其在具有大量细节的场景中显得更为明显。

Sample lookup:样本查找,这个选项在渲染过程中使用,它决定发光贴图中被用于插补基础的合适的点的选择方法。系统提供了3 种方法供选择。

Nearest:最靠近的,这种方法将简单的选择发光贴图中那些最靠近插补点的样本(至于有多少点被选择由插补样本参数来确定)。这是最快的一种查找方法,而且只用于VR 早期的版本。这个方法的缺点是当发光贴图中某些地方样本密度发生改变的时候,它将在高密度的区域选取更多的样本数量。

Nearest quad-balanced:最靠近四方平衡,这是默认的选项,是针对Nearest 方法产生密度偏置的一种补充。

它把插补点在空间划分成4 个区域,设法在它们之间寻找相等数量的样本。它比简单的Nearest 方法要慢,但是

通常效果要好。其缺点是有时候在查找样本的过程中,可能会拾取远处与插补点不相关的样本。

Precalculated overlapping:预先计算的重叠,这种方法是作为解决上面介绍的两种方法的缺点而存在的。

它需要对发光贴图的样本有一个预处理的步骤,也就是对每一个样本进行影响半径的计算。这个半径值在低密度

样本的区域是较大的,高密度样本的区域是较小的。当在任意点进行插补的时候,将会选择周围影响半径范围内

的所有样本。其优点就是在使用模糊插补方法的时候,产生连续的平滑效果。即使这个方法需要一个预处理步骤,

一般情况下,它也比另外两种方法要快速。作为3 种方法中最快的,Nearest 更多时候是用于预览目的,Nearest quad-balanced 在多数情况下可以完成的相当好,而Precalculated overlapping 似乎是3 种方法中最好的。注意,在使用一种模糊效果的插补的时候,样本查找的方法选择是最重要的,而在使用Delone triangulation 的时候,样本查找的方法对效果没有太大影响。

Calc. pass interpolation samples:计算传递插补样本,在发光贴图计算过程中使用,它描述的是已经被采样算法计算的样本数量。较好的取值范围是10~25,较低的数值可以加快计算传递,但是会导致信息存储不足,较高的取值将减慢速度,增加加多的附加采样。一般情况下,这个参数值设置为默认的15 左右。

Use current pass samples:使用当前过程的样本,在发光贴图计算过程中使用,勾选的时候,将促使VR 使用所有迄今为止计算的发光贴图样本,不勾选的时候,VR 将使用上一个过程中收集的样本。而且在勾选的时候将会促使VR 使用较少的样本,因而会加快发光贴图的计算。

Randomize samples:随机样本,在发光贴图计算过程中使用,勾选的时候,图像样本将随机放置,不勾选

的时候,将在屏幕上产生排列成网格的样本。默认勾选,推荐使用。

Check sample visibility:检查样本的可见性,在渲染过程中使用。它将促使VR 仅仅使用发光贴图中的样本,

样本在插补点直接可见。可以有效的防止灯光穿透两面接受完全不同照明的薄壁物体时候产生的漏光现象。当然,

由于VR 要追踪附加的光线来确定样本的可见性,所以它会减慢渲染速度。

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